High reflectance optics are useful for many spectral regions. They can be used to control the solar heat while letting the visible radiation to pass trought a windows. The high reflective optics are especially useful for the extreme ultraviolet were multilayer optics single coating based on the reflection from emerging material are needed. Boron carbide and silicon carbide are very performing material for high reflective optics in the EUV application for example in solar physics. Another field of application is the EUV photolitograpy which will be the next step. Multilayer coating undergo to degradation in the photolithographic environment and for keep their high reflectance appropriate design needs to be made.
Ottica ad elevata riflettanza sono utili per molte regioni spettrali. Esse possono essere utilizzati per il controllo del calore solare, facendo in modo che riflettano l’infrarosso lasciando passare la radiazioni visibile per esempio attraversare una finestra. Ottiche altamente riflettenti sono particolarmente utili anche per l'estremo ultravioletto dove sono necessari rivestimenti multistrato oppure rivestimenti singoli costituiti da materiali emergenti. Carburo di boro e il carburo di silicio hanno elevate riflettività e sono e saranno utili per la prossime esplorazioni dell’EUV emesso dal sole. Un altro campo di applicazione è la fotolitografia EUV che sarà il prossimo passo della fotolitografia attuale. Rivestimenti multistrato sottoposti ad ambienti fotolitografici degradano facilmente e per mantenere elevate riflettanze deve essere eseguita una accurata progettazione del film.
High reflective optics for different spectral region / Monaco, Gianni. - (2009 Feb 02).
High reflective optics for different spectral region
Monaco, Gianni
2009
Abstract
Ottica ad elevata riflettanza sono utili per molte regioni spettrali. Esse possono essere utilizzati per il controllo del calore solare, facendo in modo che riflettano l’infrarosso lasciando passare la radiazioni visibile per esempio attraversare una finestra. Ottiche altamente riflettenti sono particolarmente utili anche per l'estremo ultravioletto dove sono necessari rivestimenti multistrato oppure rivestimenti singoli costituiti da materiali emergenti. Carburo di boro e il carburo di silicio hanno elevate riflettività e sono e saranno utili per la prossime esplorazioni dell’EUV emesso dal sole. Un altro campo di applicazione è la fotolitografia EUV che sarà il prossimo passo della fotolitografia attuale. Rivestimenti multistrato sottoposti ad ambienti fotolitografici degradano facilmente e per mantenere elevate riflettanze deve essere eseguita una accurata progettazione del film.File | Dimensione | Formato | |
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