Trapping and Reliability Investigations in GaN-based HEMTs

GaN-based high electron mobility transistors (HEMTs) are promising candidates for future microwave equipment, such as new solid state power amplifiers (SSPAs), thanks to their excellent performance. A first demonstration of GaN-MMIC transmitter has been developed and put on board the PROBA-V mission. But this technology still suffers from the trapping phenomena, principally due to lattice defects. Thus, the aim of this research is to investigate the trapping effects and the reliability aspects of the GH50 power transistors for C-band applications. A new trap investigation protocol to obtain a complete overview of trap behavior from DC to radio-frequency operation modes, based on combined pulsed I/V measurements, DC and RF drain current measurements, and low-frequency dispersion measurements, is proposed. Furthermore, a nonlinear electro-thermal AlGaN/GaN model with a new additive thermal-trap model including the dynamic behavior of these trap states and their associated temperature variations is presented, in order to correctly predict the RF performance during real RF operating conditions. Finally, an advanced time-domain methodology is presented in order to investigate the device’s reliability and to determine its safe operating area. This methodology is based on the continual monitoring of the RF waveforms and DC parameters under overdrive conditions in order to assess the degradation of the transistor characteristics in the RF power amplifier.

I transistor ad effetto di campo ad alta mobilità elettronica (HEMTs) basati su nitruro di gallio (GaN) sono i più promettenti candidati, grazie alle loro eccellenti prestazioni per le future apparecchiature a microonde, per esempio gli amplificatori a stato solido (SSPA). Un primo dimostratore di circuito integrato monolitico a microonde (MMIC) in tecnologia GaN di un trasmettitore è stato sviluppato e messo a bordo della missione PROBA-V. Ma questa tecnologia soffre ancora dei fenomeni di intrappolamento, principalmente causati dai difetti presenti nel reticolo cristallino. Pertanto, lo scopo di questo dottorato è stato di investigare gli effetti di intrappolamento e gli aspetti di affidabilità dei transistor di potenza GH50 per le applicazioni a microonde in banda C. Viene proposto un nuovo protocollo di investigazione dei difetti per ottenere una panoramica completa del comportamento delle trappole dal funzionamento DC a quello radiofrequenza. Questo protocollo è basato sulle misure I / V impulsate, sulle misure del transiente della corrente di drain durante una eccitazione DC e RF e sulle misure della dispersione a bassa frequenza. Inoltre, viene presentato un modello elettro-termico non lineare del transistor GaN con un nuovo addizionale modello termico degli stati trappola. Questo ultimo include il comportamento dinamico e le loro relative variazioni in temperatura, al fine di prevedere correttamente le prestazioni RF durante le condizioni di funzionamento. Infine, viene presentata una metodologia avanzata nel dominio del tempo per indagare sull'affidabilità del dispositivo e per determinare la sua area operativa sicura. Questa metodologia si basa sul monitoraggio continuo delle forme d'onda RF e dei parametri DC in condizioni di overdrive, al fine di valutare la degradazione delle caratteristiche dei transistor nell'amplificatore di potenza RF.