Ultra-low energy boron implants in crystalline silicon: atomic transport properties and electrical activation

NAPOLITANI, ENRICO;CARNERA, ALBERTO;
1999
1999
Si Front-End Processing - Physics and Technology of Dopant-Defect Interactions
WOS:000082188100007
2-s2.0-0032684517
04.01 - Contributo in atti di convegno
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