Procedimento di scrittura su materiale fotosensibile, con l'impiego di un resist di materiali sol-gel ibridi organico-inorganici

Procedimento di scrittura tridimensionale su materiale fotosensibile, caratterizzato dal fatto che si utilizza come materiale fotosensibile un ma-teriale ibrido organico-inorganico, ottenuto a par-tire da un alcossido di silicio trifunzionale di formula (I): in cui R' è un residuo organico scelto dal gruppo che consiste di glicidossialchile, metacrilossial-chile, vinile, isocianatoalchile, amminoalchile, poliamminoalchile, in cui alchile ha da 1 a 18 ato-mi di carbonio, preferibilmente da 1 a 6 atomi di carboni e OR è scelto tra idrogeno, alchile infe-riore (C1-C4) ed arile, mediante un processo di sintesi sol-gel comprenden-te la pre-idrolisi e condensazione di detto alcossido ed in cui il sol così ottenuto è depositato a film su di un substrato ed irradiato ai fini della scrittura con radiazioni UV, raggi X o elettroni di radiazione di sincrotrone.